Tanimura Sachiko | Mitsubishi Electric Corporation, Material and Electronic Devices Laboratory, 8–1–1 Tsukaguchi Hon–machi, Amagasaki, Hyogo 661, Japan

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• Mitsubishi Electric Corporation, Material and Electronic Devices Laboratory, 8–1–1 Tsukaguchi Hon–machi, Amagasaki, Hyogo 661, Japanの論文著者

論文 | ランダム

• 高品質ZnO薄膜の作製とUVディテクタへの応用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• ZnO系DH接合の成長とそのEL発光評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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