石井 正和 | 東海大 (工)
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概要
東海大 (工) | 論文
- 透明SiO_2膜の室温形成 -分解光源の違いによる膜の電気的特性の比較-
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[IV] -表面励起光依存性-
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[II] -エッチヤント圧力依存性-
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[III] -VUV光に対するエッチャントガスの吸光係数と分解量-
- CHCIF2を用いた熱酸化シリコン膜のドライエッチング[II]