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東海大 (工) | 論文
- 1512 磁歪誘起型形状記憶効果を示す Fe-Pd 系合金に関する研究
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[IV] -表面励起光依存性-
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[II] -エッチヤント圧力依存性-
- 1a-TC-3 イオン打込みによって形成されたCdSの不純物準位
- 透明SiO_2膜の室温形成 -分解光源の違いによる膜の電気的特性の比較-
- 細菌培養を目的としたフッ素樹脂表面の親水性化処理
- コンタクトレンズ材料を目的としたPMMA表面の親水性化
- InAs粉末のESR : 半導体 (表面)
- ArFエキシマレーザーによるチタンの光化学的表面改質
- 超磁歪材(Tb, Dy)Fe_2薄膜の作製
- 超磁歪材Tb_Dy_Fe_2薄膜の磁気特性に及ぼす作製条件の影響
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング[III] -VUV光に対するエッチャントガスの吸光係数と分解量-
- CHCIF2を用いた熱酸化シリコン膜のドライエッチング[II]
- エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング -VUVランプ併用照射によるエッチング効率の改善-
- エキシマレーザーによるテフロン表面へのSi膜の室温形成
- CHC1F_2を用いた熱酸化シリコン膜のドライエッチング
- 透明SiO_2膜の室温成長とコンタクトホール同時形成
- ArFエキシマレーザーによる透明SiO_2膜の室温形成(III)
- 超高真空下で作製したCe表面のO_2の反応確率及びその温度依存性
- Sm水素化物表面上におけるNH_3合成反応