Iwata Shuichi | RACE, The University of Tokyo, 4–6–1 Komaba, Meguro–ku, Tokyo 153–8904, Japan

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論文 | ランダム

• Plasma Parameters in Low-Pressure Ar-Hg Discharge Plasma Used for Liquid Crystal Display Back-Lighting
• リードフレーム用紫外線洗浄改質装置 (実装技術ガイドブック2000年--CSP,ビルドアップ基板,ハンダ付けなど実装技術を集大成) -- (実装関連製造装置編)
• 短波長紫外線による各種表面の洗浄と改質--BGA、CSP等の基板表面への応用と効果について
• 合成樹脂材料の熱破壞電圧の厚味依存性と破壞型式
• 2C7 研究学園都市における研究開発機能の集積効果

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