Okamura Soichiro | Department of Applied Physics, Faculty of Science, Science University of Tokyo, 1–3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162
スポンサーリンク
概要
- Okamura Soichiroの詳細を見る
- 同名の論文著者
- Department of Applied Physics, Faculty of Science, Science University of Tokyo, 1–3 Kagurazaka, Shinjuku, Tokyo 162の論文著者
論文 | ランダム
- 323 セラミックスと金属の溶射接合に関する研究(第3報) : 複合積層溶射皮膜への適用
- 反応性スパッタリング法により作製した窒化鉄薄膜抵抗体の評価
- ISFET用イオン感度測定回路
- 遷移金属フタロシアニン錯体のエレクトロクロミズム
- 高周波活性化反応性蒸着における放電インピ-ダンスとの整合回路