大西 正志 | 住友電気工業株式会社横浜研究所
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概要
住友電気工業株式会社横浜研究所 | 論文
- 温度補償型ファイバグレーティングの開発
- 光インターコネクションにおけるポリマー導波路用コネクタの開発
- 波長可変ファイバグレーティングを用いたOptical Add Drop Multiplexerの開発
- B-10-76 10Gbps×12チャンネルパラレル伝送光モジュール(B-10.光通信システムB(光通信),一般セッション)
- 細径MM(Multi-Mode)用光ファイバ心線の接続技術(高機能光ファイバ及び一般)