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田中 孝生 | 大阪医科大学第3内科学教室
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紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
高純度オゾン雰囲気中への紫外照射による化学気相堆積法(CVD)SiO_2膜の改質
励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
ピュアオゾンジェネレータ(MPOG)によるTFT用ポリシリコン半導体酸化
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