真柄 卓司 | 三菱電機 先端技術総合研究所

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概要

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論文 | ランダム

• プロセシング用プラズマジェット装置
• 電子ビーム・プラズマ系の外部励起波に及ぼす直流電場の作用
• 水素放電による負イオンの生成機構
• 4p-H-7 水素プラズマ中の高速電子の振舞
• 3p-RC-11 水素プラズマ中の負イオン

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