高須 新一郎 | 超LSI技術研究組合共同研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 超LSI技術研究組合共同研究所の論文著者

超LSI技術研究組合共同研究所 | 論文

• 29p-Q-2 シリコンの結晶成長と欠陥
• Siウェ-ハの広領域薄膜化作製技術
• Siウェーハの広領域薄膜化作製技術
• 引上げシリコン結晶の熱誘起微小欠陥に対する炭素の影響
• マイクロプローブ電子分光によるAl配線の分析

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