掘田 和利 | フジミインコーポレーテッド
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概要
フジミインコーポレーテッド | 論文
- サブ100nm時代の半導体洗浄技術 (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)
- 特別記事 半導体シリコン単結晶のポリッシングスラリー開発経緯と展望
- 21411 CMPと洗浄における表面ナノ欠陥の発生機構と対策(基調講演,CMP,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- J0401-2-1 WC系サーメット溶射皮膜材料の摩擦磨耗特性([J0401-2]固相粒子成膜技術とその応用(2):溶射・コールドスプレー皮膜の特性評価)
- 442 Cold Sprayに最適なWC系溶射材調査(固相微粒子による成膜技術とその応用,ものづくりにおける基礎研究と先端技術の融合)