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山形 秀紀 | 株式会社東洋設計
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B2 塩化物型ハイドロタルサイトを用いた浸出水中の硫酸イオン除去
フェムト秒レーザダブルパルスによるクロム薄膜アブレーション
ハイドロタルサイトを用いた硫酸還元菌による硫化水素発生の抑制効果
高温高速液滴による皮膜形成素過程の分子動力学解析 : 液滴の扁平過程と原子挙動(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
319 結像光学系の回折を考慮したプリント基板レーザ穴あけの樹脂除去解析(OS13 レーザ応用加工)
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