戸崎 幹夫 | 富士ゼロックス株式会社　開発管理本部　HID 開発部

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概要

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• 富士ゼロックス株式会社　開発管理本部　HID 開発部の論文著者

論文 | ランダム

• 高分子材料の放電プラズマ表面改質におけるフォトルミネセンスによるその場検出への応用
• 3033 CF_4 プラズマ処理による表面改質
• 超高速プラズマ照射とレーザー超急冷による表面改質(一般研究)
• プラズマ溶射と放電加工による金型表面改質
• 高エネルギー・高密度イオン注入によって作製したTiNの特性評価

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