Homogeneous nano-patterning using plasmon-assisted photolithography
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
We report an innovative lithography system appropriate for fabricating sharp-edged nanodot patterns with nanoscale accuracy using plasmon-assisted photolithography. The key technology is two-photon photochemical reactions of a photoresist induced by plasmonic near-field light and the scattering component of the light in a photoresist film. The scattering component of the light is a radiation mode from higher order localized surface plasmon resonances scattered by metallic nanostructures.
- 2011-07-04
論文 | ランダム
- 船籍事情 急増する香港籍船舶に関する実務的検討
- 種苗法の改正について
- 海運実務・入門セミナー 海運業における倒産と関係者の対応(9・最終回)船会社民事再生物語
- 海運業における倒産と関係者の対応-7-船舶差押による債権回収・実務編
- 座談会 ISMコード下の船舶管理の現状と展望--国内サードパーティ船舶管理者大いに語る (特集・21世紀の船舶管理)