Effects of Atomic Weight, Gas Pressure, and Target-to-substrate Distance on Deposition Rates in the Sputter Deposition Process (小特集 第54回真空に関する連合講演会論文集(1))
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概要
日本真空協会 | 論文
- 高精度ダイアフラム圧力計の再現性
- 1kg真空天びんを用いたステンレス鋼表面上の水分子吸着量変化の測定
- 電子天びんを用いた真空中でも質量測定
- 偏光解析法による水分子吸着量変化の測定
- 真空技術関連の規格の現状と動向