2010年北海道情報大学第十回中国語研修報告書
スポンサーリンク
概要
論文 | ランダム
- Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching of α-Ta for X-Ray Mask Absorber Using Chlorine and Fluoride Gas Mixture
- Etching Characteristics of α-Type Ta Film Using Cl_2 Electron Cyclotron Resonance(ECR)Plasma
- Development of Highly Accurate X-Ray Mask with High-Density Patterns
- スリット光を用いた3次元モデル撮影システムの設計と実装
- IBM&Rによるテクスチャ付き3次元スキャナーの開発(画像入出力および一般)