SiO2-As2O3系薄膜からSiおよびSiO2中へのヒ素の拡散 (半導体・集積回路の生産技術(特集))

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概要

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• 電気化学会の論文
• 1973-07-00

電気化学会 | 論文

• 金およびチオール修飾金電極に吸着したグルコン酸デヒドロゲナーゼの直接電子移動反応
• 分子振動を利用した単分子操作
• ゲル電解質膜を用いたPEFCの耐久性に及ぼす力学・構造因子の影響
• 原子・分子レベルを有する電極表面科学の最近の進捗
• 表面増強赤外吸収分光法による電極界面の超高速ダイナミクスの追跡

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