虚数の次数の変形ベッセル関数Kis(x),Iis(x)を含んだ円筒調和関数によるポテンシャル問題の解析〔英文〕

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 鹿児島大学工学部の論文

鹿児島大学工学部 | 論文

• 加熱円柱の後流の温度
• 円柱背面の伝熱流動特性--主流乱れのスケ-ルと円柱径の影響
• 直径の異なった円柱を用いた円柱背面の伝熱流動特性
• 円柱背面熱伝達に及ぼす円柱の大きさの影響〔英文〕
• 円管内を移動する仕切板後方における輸送現象--管壁の流体摩擦

もっと見る

スポンサーリンク