Effect of dielectric barrier discharge air plasma treatment on TiO2 thin film surfaces (Special issue: Nano electronic materials)
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概要
論文 | ランダム
- 人類の環境とエネルギー-1-環境と生態系(Electronics Journal)
- 206 直列配置された高温加熱円柱後流の渦構造(流体工学III)
- 318 ノズル内の小円柱後流による二次元噴流の拡散制御 : 制御条件におけるレイノルズ数の影響(2)(OS3-4 噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性(噴流2),OS3噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性)
- 306 円柱後流解析のスペクトル法による新手法(2)(OS3-2 噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性(後流2),OS3噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性)
- 318 ノズル内の小円柱後流による二次元噴流の拡散制御 : 制御条件におけるレイノルズ数の影響(1)(OS3-4 噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性(噴流2),OS3噴流,後流,せん断流の構造・普遍的特性)
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