Novel air-gap formation technology using Ru barrier metal for Cu interconnects with high reliability and low capacitance
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概要
論文 | ランダム
- 引張歪非対称量子井戸を有する1.3μm帯25/43Gbps EA変換器付DFB-LD(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 100℃低駆動電流動作10Gb/s 1.3μm AlGaInAs BH DFBレーザ
- 原子間力顕微鏡を用いた強磁性薄膜のナノ酸化加工
- AFMを用いた強磁性体ベースのナノドット作製における印加電圧依存性
- AFM局所酸化法により作製したNiFeナノ構造