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概要
論文 | ランダム
- ULSIプロセス・デバイス技術と計算科学の融合
- Hf系絶縁膜中の水素原子の原子レベルの挙動の理論的研究 : ホールを起源とした絶縁破壊のメカニズム(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- HfO_2系high-kゲート絶縁膜信頼性劣化の物理モデル(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- COPDの急性増悪の薬物療法 (特集 COPDの急性増悪をめぐって)
- 住宅規模からみた日本の建売住宅の実態 : 座敷とだんらん空間からみた新築分譲住宅の平面構成の変容過程に関する研究 第2報(空間構成(2),建築計画II)