光ナノインプリント用モールド製造への半導体フォトマスク技術の活用 (マテリアルフォーカス:エレクトロニクス 継ぎ目なしにパターン転写できるか?柔らかい媒体に転写可能か? HDD/FDP/LED/半導体/電池など,様々な用途が期待できる ナノインプリントのマテリアル,装置と離型性・安定性の克服に向けた課題)
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概要
論文 | ランダム
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