光ナノインプリント用モールド製造への半導体フォトマスク技術の活用 (マテリアルフォーカス:エレクトロニクス継ぎ目なしにパターン転写できるか?柔らかい媒体に転写可能か? HDD/FDP/LED/半導体/電池など,様々な用途が期待できるナノインプリントのマテリアル,装置と離型性・安定性の克服に向けた課題)