スプレーCVD法で作製したITO薄膜の電子物性:アニール効果

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概要

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• 東京都立科学技術大学学術研究委員会の論文

東京都立科学技術大学学術研究委員会 | 論文

• 3cm級RFイオンスラスタ放電室形状の性能に与える影響評価
• カスプ磁場型イオン推進機における放電室プラズマとイオンビーム
• ベアテザーコレクタによる電子収集特性評価
• 目標値の先見情報を用いた補償入力のオンライン設計法
• 制約を有する連続時間線形系に対する補償入力の設計

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