イオン注入法,プラズマCVD法によるハイドロキシアパタイトの超親水化表面の創製
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概要
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- 2003-11-16
論文 | ランダム
- 20pGL-9 短パルスレーザー光照射による過渡的な吸着種-基板間非断熱結合の増大(20pGL 表面ダイナミクス・水素ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 23pTE-4 orifice probe-DCレーザー光脱離法による負イオンプラズマ診断(23pTE プラズマ科学(高エネルギー密度プラズマ・イオン源),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
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