ポリ(4-ヒドロキシスチレン スルホン)の気相シリル化による脱スルホン化反応

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概要

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• 東京都立産業技術研究所の論文

東京都立産業技術研究所 | 論文

• 無電解Ni-P合金めっき膜の微細構造と磁性
• 電析Ni-P合金めっき膜の微細構造と磁性
• 塑性加工用金型を対象としたDLC膜の密着性評価法
• 三宅島火山灰を主原料とした水プラズマ溶射法による構造材の開発
• セラミックス工具を用いた亜鉛めっき鋼板の無潤滑絞り加工

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