半導体シリコン中の微小欠陥の挙動とプロセス応用 (機器分析学の進歩)

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概要

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• 九州大学中央分析センタ-の論文

九州大学中央分析センタ- | 論文

• スピン系における磁場が誘起する量子現象
• 酵母シトクロ-ムCの熱変性とゾル-ゲル転移
• グラファイト炭素へのアニオンの挿入と表面反応層の組成分析
• 高重力場とレーザーアブレーション法の組み合わせによる組成傾斜薄膜の作成
• 表面ゾル・ゲル法によるD-A連結型光電変換多層膜の作製

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