MOCVD法による1.3μm帯GaInNAs量子井戸半導体レーザ

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概要

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• リコ-研究開発本部の論文

リコ-研究開発本部 | 論文

• 製品技術解説 マルチファンクションファクシミリRIFAX ML4500
• 技術紹介 凝集砥粒研磨フィルムによる光学ガラスの表面仕上げ加工
• 放射光を用いたSb-Te系合金薄膜の局所構造解析
• 製本原稿スキャン画像の歪み補正技術
• 技術紹介 ダイ塗布方式における巾方向膜厚精度設計技術

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