Ti3+-H2O2系ラジカル生成最適条件と3d帯金属酸化物上でのラジカル生成〔金属酸化物表面での無機ラジカルの生成-1-〕

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概要

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電気化学会 | 論文

• 金およびチオール修飾金電極に吸着したグルコン酸デヒドロゲナーゼの直接電子移動反応
• 分子振動を利用した単分子操作
• ゲル電解質膜を用いたPEFCの耐久性に及ぼす力学・構造因子の影響
• 原子・分子レベルを有する電極表面科学の最近の進捗
• 表面増強赤外吸収分光法による電極界面の超高速ダイナミクスの追跡

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