SIMOX-SOI基板上に製作した2又は6nmのシリコン層を有するチャネル長50nmのnMOSFETにおけるメゾスコピック動作特性
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概要
関西大学工業技術研究所 | 論文
- 高純度酸化チタン製造のための分離精製プロセスの1つの提案
- ビジネスイノベ-ションの方法論--ビジネス・プロセス・マネジメント
- 天然ガスの合成ガスへの化学的転換技術
- 特集:21世紀のバイオテクノロジー--血管生物学の挑戦
- 特集 環境とリサイクル--MIM加工技術を生かした鉄鋼スケ-ルおよび回収ポリプロピレンのリサイクル--エコマテリアルをめざして