1G11 化学修飾されたゲル膜の光分解による ZrO_2-SiO_2 系非晶質薄膜の微細パターニング
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概要
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The effects of UV-irradiation on the properties of ZrO_2-SiO_2 gel films derived from chemically modified Zr(OBu)_4 and Si(OEt)_4 have been studied. The gel films containing ZrO_2 more than 30mol% showed appreciable photosensitivity and were applicable to the fine-patterning of non-crystalline films in the ZrO_2-SiO_2 system.
- 1996-10-07
論文 | ランダム
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