2K17 ECR マイクロ波プラズマ CVD 法によるフッ化物ガラス薄膜の合成
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概要
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Fluoride glass thin films were prepared on CaF_2(III) substrates by ECR microwave plasma-enhanced CVD method. Metal β-diketone chelates and an NF_3 gas were used as starting materials and a fluorinating gas, respectively. X-ray diffraction (XRD) patterns and IR spectra were measured to characterize these thin films.
- 2000-10-11
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