29p-L-19 MFIS型メモリの膜構造と電気特性の関係(2) : レーザーアブレーション法SrBi_2Ta_2O_9膜と極薄SiNバッファ層を用いたMFIS構造のメモリ特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-03-28
論文 | ランダム
- C210 イネにおけるアカスジカスミカメ幼虫の発育の可能性
- C205 イネの穂におけるアカヒゲホソミドリカスミカメ幼虫の発育 : 特に割れ籾の効果(一般講演)
- アカヒゲホソミドリカスミカメに対する薬剤散布適期
- B312 オオトゲシラホシカメムシの籾加害における穎貫穿能力(発生予察 被害解析)
- 新潟県におけるフィプロニル抵抗性のイネドロオイムシ個体群の発生