29p-L-19 MFIS型メモリの膜構造と電気特性の関係(2) : レーザーアブレーション法SrBi_2Ta_2O_9膜と極薄SiNバッファ層を用いたMFIS構造のメモリ特性

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概要

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• 1999-03-28

論文 | ランダム

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