Ultrahigh-Resolution Vacuum Ultraviolet Light Source System for Extremely Low Energy Photoelectron Spectroscopy
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概要
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We propose an efficient monochromatization method for the new ultrahigh-resolution Ar, Kr, and Xe light sources to be used for extremely low energy photoelectron spectroscopy (ELEPES). By fully utilizing the short-wavelength transmittance limits known as the Urbach tail of LiF, CaF2, and sapphire, we can extract only the longest wavelength lines of the resonance lamp with Ar, Kr, and Xe gases by using LiF heated up to ${\sim}50$ °C as well as CaF2 and sapphire at room temperature. The full width at half maximum of the longest wavelength Xe I resonance line is found to be narrower than 500 μeV. Using these light sources, we can perform ELEPES in laboratories at three photon energies with ultrahigh energy resolution and high efficiency.
- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2008-04-25
著者
-
Sekiyama Akira
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
-
Suga Shigemasa
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
-
Kimura Shin-ichi
Uvsor Facility Institute For Molecular Science
-
Funabashi Gen
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
-
Ito Takahiro
Uvsor Facility Institute For Molecular Science
-
Fujiwara Hidenori
Graduate School Of Engineering Science Osaka University
-
Funabashi Gen
Graduate School of Engineering Science, Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan
-
Hasumoto Masami
UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki, Aichi 444-8585, Japan
-
Baltzer Peter
MB Scientific AB, Seminariegatan 29B, SE-75228, Uppsala, Sweden
-
Suga Shigemasa
Graduate School of Engineering Science, Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan
-
Ito Takahiro
UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki, Aichi 444-8585, Japan
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