数値制御電解加工(NC-ECM)による中性子収束用金属ミラー基盤の精密形状創成（第1報）:ライン型電極による楕円面の一括創成
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概要
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計測時間の短縮，S/N比の向上のため，中性子ビームを集光する素子が求められている．我々は，電解加工領域を局所化できる吸引ノズル型電極を数値制御走査することで，サブミクロンレベルの精度での中性子集光用非球面金属ミラーの形状創成を目指している．本報では，小径電極によるラスター加工のようにツールマークを発生させない，長方形型のライン電極を数値制御走査し，楕円形状の一括創成を行った結果を報告する．
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公益社団法人 精密工学会 | 論文
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