ディップペン・ナノリソグラフィーのMDシミュレーション:濡れ性と描画状態の関係
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概要
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近年注目されている描画技術にディップペン·ナノリソグラフィー(DPN)がある。しかし、この技術で描画される分子の線はnm ˜ umオーダーであるために、系統的な実験を行うことが困難である。そこで、本研究ではDPNのメカニズムを解明するために、MDシミュレーションを行う。様々なプローブ、基板、描画分子材料を想定してポテンシャルパラメータを変化させ、この時の材料の濡れ性と描画状態(線幅、高さ)の定性的な関係を調べる。
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公益社団法人 精密工学会 | 論文
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