ポリシロキサンを用いたダイヤモンド型の作製および室温インプリントによるダイヤモンドのナノパターニング
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概要
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ナノインプリントリソグラフィ(NIL)プロセスでは、特にモールドが重要であり、一般には、シリコンがその材料に用いられるが耐久性に弱い。そこで、高硬度、低熱膨張係数、耐磨耗性などの優れた性質を持つダイヤモンドが最もモールド材料に適していると考えられる。本研究では、SOGの一種であるポリシロキサンがネガ型の電子ビーム露光感度特性があることを見出し、この特性からダイヤモンド型を作製した。室温で高粘性で高精度なパターン転写が可能で、そのパターンがそのままマスクとなり、また酸素プラズマエッチング耐性を持つポリシロキサンを用いた室温NILプロセスによるダイヤモンドのナノパターニングについて検討した。
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公益社団法人 精密工学会 | 論文
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