X線リソグラフィ用3次元X線マスクの作製と評価
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概要
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放射光によるX線リソグラフィではマスクパターンが転写された深さ方向に均一な形状が作製される。そこで、我々はこれまで吸収体の厚みに変化を持たせ透過するX線光量を制御し3次元構造体作製技術を提案してきた。今回は感度特性の異なる2種類のポジ型レジストを用い、UV露光にて部分的に吸収体の厚みに分布を持つX線マスクの作製を行った。また、このマスクを用いて3次元構造体を作製した。
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公益社団法人 精密工学会 | 論文
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