マグネトロンスパッタリング法により形成したホウ素含有薄膜の機械的特性
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概要
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新規硬質膜の創成を目指して,DCマグネトロンスパッタリング法によりホウ素含有薄膜を形成した.本実験においては,ターゲットとして炭化ホウ素を用い,薄膜の機械的特性に及ぼす成膜時の基板温度,ガス圧,ガス種の影響を評価した.その結果,基板温度を高くすることにより,また,成膜時に窒素ガスを導入することにより,硬度が上昇する傾向にあることが確認された.
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公益社団法人 精密工学会 | 論文
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