マグネトロン・スパッタリング法によるアルモファス・シリコン膜の高速堆積法（1）:—磁界強度の効果—
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概要
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The deposition rate of a-Si: H films by rf planar magnetron sputtering method has been measured as a function of the magnetic flux on the Si target. The relation between the magnetic flux and the erosion groove of the Si target is as follows.At the position where the vertical component of the magnetic flux (B⊥) is zero, the Si target is most deeply eroded. On the other hand the maximum depth of the groove depends on the parallel component of the magnetic flux (B〃) and it becomes maximum when the B〃 is in the range of 0.02T to 0.04T. The high rate deposition (10μm/h) has been achieved by using the above mentioned magnet.
- The Imaging Society of Japanの論文
The Imaging Society of Japan | 論文
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