CVDプロセスのIn Situエリプソメトリ- (表面技術とその場測定<特集>)

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概要

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• 一般社団法人 表面技術協会の論文

一般社団法人 表面技術協会 | 論文

• ニオブアノード酸化皮膜の成長挙動と微細構造制御
• UV照射を用いた樹脂表面改質におけるめっき密着メカニズム
• ホウ酸代替物質を使用したスルファミン酸ニッケル浴から得られためっき皮膜物性とその応用
• 平滑な樹脂基板上へのメタライゼーション
• テトラエチルシランを用いたSi(111)基板上における3C-SiCのエピタキシャル成長とヘテロ界面におけるボイドの抑制

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