MIBK抽出-ク形波ポーラログラフ法による高純度テルル中の銅および鉛の定量 : ポーラログラフ法による半導体材料の分析(第1報)
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概要
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ク形波ポーラログラフを用いて,半導体材料用金属テルル中の銅と鉛を,比較的少量の試料で精度よく同時に定量できる方法を検討した.試料を王水で分解し乾固したのち,塩酸を加えて乾固をくり返す.塩酸(6または7<I>N</I>)-硝酸(0.5<I>N</I>)溶液20m<I>l</I>に溶解したのち,MIBKの20m<I>l</I>ずつを用い,水相の硝酸濃度を0.5〜0.8<I>N</I>の範囲に保ちつつ,数回にわたり主成分のテルルを抽出除去する.水相を乾固したのち硫酸+硝酸(1+6)を少量加え,白煙がほとんど出なくなるまで加熱して有機物を分解除去する.1<I>M</I>硫酸または2<I>M</I>リン酸の一定量(4または10m<I>l</I>)を加えて塩類を溶解したのち,ク形波ポーラログラムを記録する.本法を種々の試料に適用し,ほぼ満足できる結果を得た.
- 社団法人 日本分析化学会の論文