層流エアロゾル反応器でのCVDによる微粒子生成の評価

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概要

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• 層流エアロゾル反応器 (LFAR) での, ガスの化学反応による微粒子の生成が理論および実験的に検討された.実験ではチタンテトライソプロポキシド (TTIP) の蒸気を含むガスが加熱管に層流で導入され, 均一核生成により発生した微粒子の個数濃度および粒度分布が種々の条件下で測定され, TTIP蒸気濃度, 反応器の温度分布, キャリアガスの影響が明らかにされた.理論解析では, 微粒子の生成を簡略化反応凝集モデルで評価し, モノマー, クラスターおよび微粒子のブラウン凝集, ブラウン拡散, 層流による輸送を表すエアロゾルの一般動力学的方程式が数値的に解かれた.実験結果は, 理論計算結果と傾向的によく一致し, TTIP蒸気, モノマー, クラスターおよび微粒子の壁への沈着は, 反応温度が低いほど, 供給TTIP蒸気濃度が低いほど, キャリアガス分子の平均自由行程が大きくなるほど大きくなることが明らかにされた.

著者

• 奥山 喜久夫

  大阪府立大学工学部 化学工学科

• 牛尾 隆一

  大阪府立大学工学部 化学工学科

• Seinfeld John

  Dept. of Chem. Eng., California Institute of Technology

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