均一ルテニウム触媒を用いた合成ガスからのエタノール液相直接合成のための反応方式の開発
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概要
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均一ルテニウム触媒を用いたCO/H<SUB>2</SUB>からのエタノールの液相直接合成のための反応方式の開発を行った. 本反応は220〜240℃, 40〜50MPaの条件下で行われ, 主な副生成物はメタノール, プロパノール, 酢酸メチル, 酢酸エチルおよびメタンである.これらの反応生成物がいずれも低沸点であることに着目して, 高沸点の反応溶媒を用い, 触媒液を反応器に保持しておいて合成ガスだけを連続供給し, 反応生成物を未反応ガスでストリップして反応系外に取り出す反応方式を研究し, 適切な条件下においてこの反応方式が本反応に有効であることを見いだした.この反応方式では反応生成物の他に触媒成分の一部が揮散することがわかり, この揮散に見合う量の触媒を反応器に補給することによって反応を安定化することができた.その結果, 約40時間にわたってエタノールのSTY110±10kg・m<SUP>-3</SUP>・h<SUP>-1</SUP>, 選択率60±2%という反応成績を得た.
著者
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小野 博司
三井東圧化学(株)大阪研究所技術研究部
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藤原 謙二
三井東圧化学 (株) 技術研究所
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杉山 栄一
三井東圧化学 (株) 技術研究所
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吉田 研治
三井東圧化学 (株) 大阪研究所
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小野 博司
三井東圧化学 (株) 技術研究所