ゾルゲル法調製In_2O_3-Ga_2O_3-Al_2O_3触媒上でのNO選択還元反応機構のFT-IRによる検討
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概要
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Ga2O3-Al2O3のプロピレンによるNO選択還元反応は水蒸気の共存により抑制されたが,In2O3-Ga2O3-Al2O3では大きく促進された。FT-IRによる表面吸着種の観察から,水蒸気非共存下において,NO3−,acetate,formate,ニトリル(-CN),イソシアナート(-NCO),アミノ(-NH)の生成が認められた。ニトロ化合物の吸着およびNO3−とプロピレンの反応により生成する吸着種の挙動観察から,NO酸化を経て生成したNO3−とプロピレンの反応により生成した有機ニトロ中間体が-NCOへと分解され,-NCOの加水分解により生成した-NH化合物とNOxとの反応によりN2へ還元される反応機構を推定した。水蒸気の共存により,Ga2O3-Al2O3,In2O3-Ga2O3-Al2O3ともに反応初期の中間体であるNO3−の生成が抑制されたが,In2O3-Ga2O3-Al2O3では-NCOの生成・分解が促進された。これが水蒸気による異なる触媒特性の要因と推察した。
- 社団法人石油学会の論文
- 2004-05-01
著者
-
長尾 幸徳
東京理科大学理工学部工業化学科
-
羽田 政明
産業技術総合研究所
-
浜田 秀昭
産業技術総合研究所
-
浜田 秀昭
(独)産業技術総合研究所 新燃料自動車技術研究センター
-
浜田 秀昭
産業技術総合研究所新燃料自動車技術研究センター
-
浜田 秀昭
産業技術総合研究所 新燃料自動車技術研究センター
-
金田一 嘉昭
産業技術総合研究所 環境化学技術研究部門
-
金田一 嘉昭
産業技術総合研 環境化学技術研究部門
-
羽田 政明
名古屋工業大学セラミックス基盤工学研究センター
-
森田 智子
東京理科大学理工学部
-
濱田 秀昭
産業技術総合研究所 新燃料自動車技術研究センター
-
浜田 秀昭
産業技術総合研
-
長尾 幸徳
東京理科大学
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