新カウフマン型イオン源の応用
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概要
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特集：生産・加工システムの最適化最近、イオンビームデポジションという薄膜作製技術用に高イオン電流密度のイオン源が開発された。このイオン源は従来のカウフマン型イオン源のスクリーングリッドと加速グリッドの部分を設計変更して、イオンビームをフォーカスすることができるように改良したものである･この新しいイオン源をイオンエッチングという特殊加工に応用した場合の可能性について解説する。
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