Application of Raman Scattering to the Structural Characterization of Glow-Discharge-Deposited Si Films
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概要
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Raman scattering spectroscopy is applied to characterize structural properties of glow-discharge-deposited Si films. Effects of preparation parameters on the properties are discussed with the aid of a volume fraction of crystallinity determined from measured Raman spectra, linewidths of the spectra, and crystallite sizes calculated from X-ray diffraction. Finite-size effects on the spectra of the films are also considered by comparing with experimental and theoretical results reported elsewhere.
- 津山工業高等専門学校の論文
- 1990-03-31
津山工業高等専門学校 | 論文
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