極低圧における水蒸気のガラス表面への吸着 : その真空技術に及ぼす影響について
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概要
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真空装置の排気に際して,圧力の降下が理論よりもはるかにゆっくりとしているのは,壁に吸着していた水の離脱によると考えられている.この現象を解明して排気に関する基礎資料を得る目的で,ガラスに対する水の吸着を10-5～10-6Torrの圧力範囲でおこなった.その結果を真空装置における水のsourceの問題に関連して,真空技術的立場から検討した.
- 東京大学生産技術研究所,Institute of Industrial Science. University of Tokyo,東京大学生産技術研究所 物理機器学,Institute of Industrial Science. University of Tokyoの論文
- 1962-11-01
著者
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