溶液成長法により作製したPbS薄膜の成長速度と光導電効果(材料デバイスサマーミーティング)
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概要
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溶液成長法によりガラス基板上にPbS薄膜を堆積させた.基板を溶液に浸す回数(成長回数とする),溶液温度,チオ尿素量を変化させ,PbS薄膜を作製した.試料はSEMによる表面・断面の観察と光導電効果による電流変化ΔI_sの測定によって評価した.成長回数,溶液温度の増加に伴って膜厚,ΔI_sは増加するが,ある膜厚以上で特性が悪化することがわかった.溶液温度90℃,成長回数1回とし,チオ尿素量を調整することにより,最大のΔI_sを持つPbS薄膜を得た.
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2013-06-14
著者
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