コリメータスパッタ堆積膜の結晶配向制御(信号処理,一般)
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概要
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傾斜コリメータスパッタリングによる傾斜配向膜の作製を検討した。大きな傾斜角を得るには,傾斜コリメータの使用だけでは効果がなく,Ta/Pt下地膜を同時に用いることが必要であることがわかった。Pt膜は5nm以下の薄膜でも傾斜配向に効果があり,堆積時のAr圧力を高くするほど大きな配向傾斜角が得られることが分かった。しかし,同時に配向分散角が増加した。Pt下地膜はア二ール処理で配向傾斜がもどってしまうが,Pt膜上にRu層を形成することで,アニール処理で傾斜角を大きく,かつ配向分散角を小さくできることがわかった。しかし,大気開放を伴う製膜プロセスでは最上層のCo-Cr膜の配向分散角が極端に増加してしまうことが分かった。現行装置では加熱ガス出し温度を低くすることで,Co-Cr膜で7.8°の傾斜角と9°以下の比較的小さな配向分散角を得ることができた。
- 2011-12-08
著者
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