03aB08 非線形光集積回路のための結晶成長技術と光電子集積回路への展開(光・電子集積回路(OEIC)時代をひらく結晶成長技術,ナノ・エピ分科会シンポジウム,第36回結晶成長国内会議)
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概要
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We have developed a new epitaxial growth technique, sublattice reversal epitaxy, for fabricating periodically-inverted zincblende-type semiconductor structures indespensable to integrate quadratic nonlinear optical devices with compound-semiconductor-based optoelectronic circuits. Possibility for integrating with electronic circuits will also be discussed.
- 2006-11-01
著者
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近藤 高志
東京大学大学院 工学系研究科マテリアル工学専攻
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近藤 高志
東京大学工学部マテリアル工学科
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松下 智紀
東京大学工学部マテリアル工学科
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近藤 高志
東京大学工学部
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松下 智紀
東京大学工学部
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