点欠陥の制御によるシリカガラスの真空紫外域透明化(第60回日本セラミックス協会進歩賞受賞に関する総説及び論文)

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概要

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• Silica glass is an important optical material in deep-ultraviolet (DUV, λ≲300nm) and vacuum-ultraviolet (VUV, λ≲200nm) spectral regions. However, DUV-VUV transparency of silica glass is significantly influenced by the presence of structural imperfections (point defects). This article describes point defects in silica glasses of low metallic impurity contents ("synthetic" silica glasses), and optical and chemical properties of these point defects. It is shown that controlled doping with specific point defects can improve the transparency and radiation hardness of silica glass in DUV-VUV spectral region. Such doped species include network modifiers that relax the glass structure and mobile interstitial hydrogen molecules. Utilization of these techniques in developing photomask substrates for F_2 laser photolithography and DUV optical fibers for ArF laser transmission is presented.

• 社団法人日本セラミックス協会の論文
• 2007-02-01

著者

• 梶原 浩一

  科学技術振興機構erato透明電子活性プロジェクト:(現)科学技術振興機構sorst

• 梶原 浩一

  Transparent Electro-active Materials Project Erato-sorst Japan Science And Technology Agency In Fron

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